Hintergrundkonzentrationen Metalle - Folgeprojekt
Bei einer großen Zahl von Oberflächenwasserkörpern treten Normüberschreitungen bei Schwermetallen und Halbmetallen auf, die ggf. bereits durch die natürlichen Hintergrundwerte begründet sind.
Im Rahmen des Folgeprojektes wurden landesweit Lücken für Bestandsparameter geschlossen, die im letzten Projekt nicht mehr berücksichtigt werden konnten sowie HGW für neu vorgegebene, verbindliche Parameter ermittelt.
Projektdaten
| Titel | „Natürliche Hintergrundkonzentrationen in Oberflächenwasserkörpern Nordrhein-Westfalens“ - Folgeprojekt |
| Abkürzung | Hintergrundkonzentrationen Metalle |
| Durchführende Institution | Geologischer Dienst |
| Projektleitung | MUNV NRW |
| Laufzeit | 2024-2025 |
| Status | Abgeschlossen (2025) |
Beschreibung
In den Jahren 2016 bis 2019 hat der Geologische Dienst NRW im Auftrag des damaligen MKULNV NRW das Projekt „Ermittlung von natürlichen Hintergrundkonzentrationen in Oberflächengewässern Nordrhein-Westfalens“ durchgeführt. Im Rahmen dieses Projektes wurden landesweit für hydrologisch und hydrogeochemisch abgeleitete Bewertungseinheiten natürliche Hintergrundkonzentrationen für verschiedene Metalle ermittelt. Aus diesen wurden, gemäß Vorgaben der LAWA, Hintergrundwerte (HGW) für Oberflächenwasserkörper (OWK) errechnet.
Im ersten Projekt waren HGW zunächst nur für die Oberflächenwasserkörper (OWK) ermittelt worden, bei denen die Erreichung der gesetzlichen Bewirtschaftungsziele zum Zeitpunkt des Projektstarts in Bezug auf bestimmte geregelte Stoffe gefährdet war. Da sich inzwischen u.a. die Stoffkulisse, d. h. die Anzahl und Verteilung der auffälligen OWK, veränderte und der Parameter-Katalog, d. h. die Liste der zu betrachtenden Schadstoffe, erweitert wurde, waren Aktualisierung der Daten sowie Neuberechnung der HGW notwendig.
Im Rahmen des Folgeprojektes wurden landesweit Lücken für Bestandsparameter geschlossen, die im letzten Projekt nicht mehr berücksichtigt werden konnten sowie HGW für neu vorgegebene, verbindliche Parameter ermittelt.